نکل - سلیکن اللوز (NISI) کے اہداف نکل (نی) اور سلیکن (سی) کے امتزاج پر مشتمل ہیں جو عام طور پر 99.9 ٪ (3n) یا اس سے زیادہ کی پاکیزگی میں موجود ہوتے ہیں۔ سلیکن کے سیمیکمڈکٹر خصلتوں کے ساتھ نکل کی برقی اور تھرمل چالکتا کو شامل کرنے کے نتیجے میں ، ان مادوں کو دونوں کو "ہائی - درجہ حرارت مرکب" دونوں کے طور پر درجہ بندی کیا گیا ہے اور فنکشنل فلموں کے لئے پھیلنے والے ذرائع ہیں۔ نی - سلیکون (نیسی) کھوٹ پھڑکنے والے اہداف سیمیکمڈکٹر سیکٹر میں کم - مزاحمتی سلسلے کی پرتوں کی تیاری میں ایک اہم کام انجام دیتے ہیں۔ نیوروٹیک ، ایک نسی فلم کی حیثیت سے ، انٹیگریٹڈ سرکٹس میں باہمی رابطوں اور اوہمک رابطوں میں استعمال کے ل good اچھے تھرمل استحکام کے ساتھ ساتھ قابل ذکر چالکتا کا مظاہرہ کرتا ہے۔ چاندی کے آلات کی کارکردگی اور وشوسنییتا کو بڑھانے کے ل the ، الیائی ، سلیکن کے ساتھ ، نکل سلائیڈ کی تشکیل کرتا ہے ، جو اعلی - کارکردگی ، تیز اور موثر الیکٹریکل انٹرکنیکشن کے لئے جدید سی ایم او ایس ٹیکنالوجی کا ایک اہم جز ہے۔
کس طرح نکل - سلیکن ایلائی ٹارگٹ میٹریل تیار کیا جاتا ہے
1. خام مال کی تیاری۔ بہترین نتائج کو حاصل کرنے کے ل we ، ہم نے صرف خالص نکل اور خالص سلیکن کا استعمال کیا اور ہدف مصر کے مرحلے (جیسے ، نی/سی 90/10 پر ٪ ، 80/20 اے ٹی ٪) کے مطابق عین مطابق اسٹوچومیومیٹرک مقدار کی پیمائش کی۔
2. ویکیوم پگھلنے. سلیکن اور نکل خام مال کو ایک صلیب میں ڈالا جاتا ہے (اکثر پانی - ٹھنڈا تانبے کی کراسبل)۔ انڈکشن ہیٹنگ اسے زرکونیم کے ساتھ مکمل طور پر پگھلا دیتا ہے اور اسے پگھلے ہوئے مصر دات میں تشکیل دیتا ہے۔ یہ ایک اعلی - درجہ حرارت ، کم - ویکیوم ماحول میں ہوتا ہے جس میں گیسیئس نجاست جیسے H ، O ، اور N. پگھلے ہوئے مرحلے کے دوران ، ہم مائع مصر کے حصول کے لئے زرکونیم کو مزید بہتر بنانے کے لئے برقی مقناطیسی ہلچل کا استعمال کرتے ہیں۔ پگھلے ہوئے مصر دات کا مجموعہ تانبے کے سڑنا میں ڈالا جاتا ہے ، ٹھنڈا ہوتا ہے ، اور نکل - سلیکن اللائی انگوٹ میں مستحکم ہوتا ہے۔
3. ہوموجنائزیشن ہیٹ ٹریٹمنٹ۔ اس کے ارد گرد ویکیوم یا حفاظتی ماحول (جیسے ، اے آر گیس) میں ایک یکساں گرمی کے علاج میں انگوٹھا رکھا جاتا ہے۔ اسے درجہ حرارت پر درجہ حرارت پر رکھی جاتی ہے جب تک کہ ممکن ہو سکے کے طور پر (جیسے ، 10 گھنٹے کے لئے 1000402)۔
4. گرم مشینی (گرم جعلی/گرم رولنگ): ہوموجنائزڈ انگوٹ کو دوبارہ دوبارہ انسٹالائزیشن ٹیمپ (مثال کے طور پر ، 800-1000 ڈگری) کے اوپر گرم کیا جاتا ہے اور پھر گرم جعلی یا گرم رولڈ ہوتا ہے۔
5. مشینی: گرم - پروسیسڈ بلٹ کو گھومنے اور گھسائی کرنے والی مشین اور پیسنے کے طریقوں کا استعمال کرتے ہوئے اعلی صحت سے متعلق ہدف کے طول و عرض اور ہدف کے مواد کی آخری شکل کے لئے مشینی ہے۔
نکل کی درخواستیں - سلیکن ایلائی اسپٹرنگ اہداف
سیمیکمڈکٹر انٹرکنیکٹ/رابطہ پرتیں: نیسی پتلی فلمیں رابطے کی دھاتوں کے طور پر کام کرتی ہیں ، جس سے رابطے کی مزاحمت کو کم کیا جاتا ہے۔
پتلی فلم ریزسٹرس اور تناؤ گیجز: کم درجہ حرارت کا گتانک (ٹی سی آر) کی خصوصیات انہیں ہائبرڈ آئی سی ایس اور ایم ای ایم ایس پریشر سینسر کے ل suitable موزوں بناتی ہیں۔
سطح کے الیکٹران کے اخراج کی پرتیں: ویکیوم مائکرو الیکٹرانکس اور فیلڈ اخراج آلات میں ایمیٹر میٹریل کے طور پر استعمال ہوتی ہیں۔
کم - e اور توانائی - کوٹنگز کو بچانے کے لئے: جب کرومیم اور سلیکن کے ساتھ مل کر ، وہ شیشے کی فلموں کی آکسیکرن مزاحمت اور سنکنرن مزاحمت کو بہتر بناسکتے ہیں۔
فوٹو وولٹائکس اور ڈسپلے: شفاف کنڈکٹو فلموں ، الیکٹروڈ یا رکاوٹ پرتوں کے مشترکہ پھیلاؤ کے لئے استعمال کیا جاتا ہے۔
