اعلی طہارت 99.95% ٹنگسٹن سپٹرنگ ٹارگٹ
اعلی طہارت 99.95% ٹنگسٹن سپٹرنگ ٹارگٹ

اعلی طہارت 99.95% ٹنگسٹن سپٹرنگ ٹارگٹ

سپٹرنگ ایک نئی قسم کا فزیکل ویپر ڈیپوزیشن (PVD) طریقہ ہے۔ اسپٹرنگ کا بڑے پیمانے پر استعمال کیا جاتا ہے: فلیٹ پینل ڈسپلے، شیشے کی صنعت (آرکیٹیکچرل گلاس، آٹوموٹو گلاس، آپٹیکل فلم گلاس شامل ہیں)، سولر سیل، سطحی انجینئرنگ، ریکارڈنگ میڈیا، مائیکرو الیکٹرانکس، آٹوموٹو لائٹس اور آرائشی کوٹنگ وغیرہ۔
انکوائری بھیجنے
مصنوعات کی تفصیل

 

سپٹرنگ ایک نئی قسم کا فزیکل ویپر ڈیپوزیشن (PVD) طریقہ ہے۔ اسپٹرنگ کا بڑے پیمانے پر استعمال کیا جاتا ہے: فلیٹ پینل ڈسپلے، شیشے کی صنعت (آرکیٹیکچرل گلاس، آٹوموٹو گلاس، آپٹیکل فلم گلاس شامل ہیں)، سولر سیل، سطحی انجینئرنگ، ریکارڈنگ میڈیا، مائیکرو الیکٹرانکس، آٹوموٹو لائٹس اور آرائشی کوٹنگ وغیرہ۔

 

قسم اور سائز

 

پروڈکٹ کا نام

ٹنگسٹن (W-1) پھٹنے والا ہدف

دستیاب پاکیزگی (%)

99.95%

شکل:

پلیٹ، گول، روٹری

سائز

OEM سائز

پگھلنے کا نقطہ (ڈگری)

3407 (ڈگری)

جوہری حجم

9.53 سینٹی میٹر ٪ c2٪ b3٪ 2fmol

کثافت (g/cm³)

19.35 گرام/cm³

مزاحمت کا درجہ حرارت گتانک

0.00482 I/ ڈگری

Sublimation گرمی

847.8 kJ/mol (25 ڈگری)

پگھلنے کی اویکت گرمی

40.13٪ c2٪ b16.67kJ٪ 2fmol

سطح کی حالت

پولش یا الکلی واش

درخواست:

ایرو اسپیس، نایاب زمین سمیلٹنگ، برقی روشنی کا ذریعہ، کیمیائی سامان، طبی سامان، میٹالرجیکل مشینری، سمیلٹنگ کا سامان، پیٹرولیم وغیرہ

 

خصوصیات

 

(1) تاکنا، سکریچ اور دیگر نامکمل کے بغیر ہموار سطح

(2) پیسنے والی یا لیتھنگ ایج، کوئی کاٹنے کے نشانات نہیں۔

(3) مادی پاکیزگی کا ناقابل شکست لیرل

(4) اعلی لچک ۔

(5) یکساں مائکرو ٹرکچر

(6) نام، برانڈ، طہارت کے سائز اور اسی طرح کے ساتھ آپ کے خاص آئٹم کے لیے لیزر مارکنگ

(7) پاؤڈر میٹیریل آئٹم اور نمبر، مکسنگ ورکرز، آؤٹ گیس اور HIP ٹائم، مشیننگ پرسن اور پیکنگ کی تفصیلات سے پھٹنے والے اہداف کے ہر پی سیز خود بنائے جاتے ہیں۔

 

ایپلی کیشنز

 

1. پتلی فلم مواد بنانے کا ایک اہم طریقہ تھوکنا ہے - جسمانی بخارات جمع کرنے کا ایک نیا طریقہ (PVD)۔ ہدف کے ذریعہ بنائی گئی پتلی فلم اعلی کثافت اور اچھی چپکنے والی خصوصیت ہے۔ چونکہ میگنیٹران سپٹرنگ تکنیکوں کو بڑے پیمانے پر لاگو کیا جا رہا ہے، اعلی خالص دھات اور کھوٹ کے اہداف کی بہت ضرورت ہے۔ اعلی پگھلنے کے نقطہ، لچک، تھرمل توسیع کے کم گتانک، مزاحمت اور ٹھیک گرمی کے استحکام کے ساتھ ہونے کی وجہ سے، خالص ٹنگسٹن اور ٹنگسٹن الائے اہداف سیمی کنڈکٹر انٹیگریٹڈ سرکٹ، دو جہتی ڈسپلے، سولر فوٹوولٹک، ایکس رے ٹیوب اور سطحی انجینئرنگ میں بڑے پیمانے پر استعمال ہوتے ہیں۔

2. یہ دونوں پرانے سپٹرنگ ڈیوائزز کے ساتھ ساتھ جدید ترین پراسیس سازوسامان کے ساتھ کام کر سکتا ہے، جیسے شمسی توانائی یا ایندھن کے خلیوں کے لیے بڑے ایریا کوٹنگ اور فلپ چپ ایپلی کیشنز۔

 

ڈاؤن لوڈ، اتارنا ٹیگ: اعلی طہارت 99.95٪ ٹنگسٹن سپٹرنگ ہدف، چین اعلی طہارت 99.95٪ ٹنگسٹن سپٹرنگ ہدف سپلائرز، فیکٹری