پی وی ڈی کوٹنگ کا مواد

• حسب ضرورت 3N5 ہفنیم راڈ

  3N5 اعلی-پاکیزہ ہافنیم راڈز، 99.95% پاکیزگی، جوہری-گریڈ کوالٹی! انتہائی اعلی درجہ حرارت اور مضبوط سنکنرن کے خلاف مزاحم، جوہری ری ایکٹر، ایرو اسپیس انجن، اور سیمی کنڈکٹر اہداف کے لیے پہلا انتخاب۔

  زیادہ
• کاپر بیک پلیٹ کے ساتھ 4N کاربن ٹارگٹ

  تانبے کی بیک پلیٹ کے ساتھ 4N ہائی-پاکیزگی کاربن اسپٹرنگ ٹارگٹ، 99.99% پاکیزگی، مزید مستحکم پھوٹنے کو یقینی بناتا ہے! تانبے کی بیک پلیٹ تیز رفتار تھرمل چالکتا اور گرمی کی مضبوط کھپت فراہم کرتی ہے،...

  زیادہ
• اپنی مرضی کے مطابق 3N ٹن ہدف

  اعلی-پاکیزگی 3N ٹن سپٹرنگ ٹارگٹ + حسب ضرورت کاپر بیک پلیٹ سپٹرنگ کی کارکردگی کو دوگنا کرتا ہے! سیملیس بانڈنگ لاتعلقی کو روکتی ہے، جس کے نتیجے میں یکساں، ناپاک-مفت فلمیں بنتی ہیں – سیمی کنڈکٹر اور...

  زیادہ
• اپنی مرضی کے مطابق HfC ذرات

  حسب ضرورت HfC ذرات کی تفصیل HfC ذرات عام طور پر ایک غیر فعال یا کم کرنے والی فضا میں اعلی درجہ حرارت (1900–2300 ڈگری) پر کاربن کے ساتھ ہافنیم ڈائی آکسائیڈ (HfO₂) کا رد عمل کرتے ہوئے ترکیب کیے جاتے...

  زیادہ
• حسب ضرورت 3N5 مستطیل ہافنیم ہدف

  3N5 ہائی-پاکیزٹی ہافنیم ٹارگٹ، 99.95% پاکیزگی، حسب ضرورت مستطیل طول و عرض مائیکرو میٹر کے لیے درست! سیمی کنڈکٹر کوٹنگ اور آپٹیکل کوٹنگ کے لیے پہلا انتخاب، اعلی چپکنے والی ایک گھنے، ذرہ-مفت فلم...

  زیادہ
• 3N Pb1.1(Zr0.51Ti0.48Mn0.01)O3 ہدف

  3N Pb1.1(Zr0.51Ti0.48Mn0.01)O3 ٹارگٹ Pb1.1(Zr0.51Ti0.48Mn0.01)O3 کی تفصیل ایک خاص ڈوپڈ لیڈ زرکونیٹ ٹائٹینیٹ (PZT)-بیسڈ سپٹرنگ ٹارگٹ ہے۔ اس کا بنیادی کیمیائی فارمولا Pb1.1(Zr0.51Ti0.48Mn0.01)O3 ہے۔...

  زیادہ
• 4N ملی گرام میگنیشیم اسپٹرنگ ہدف

  4N میگنیشیم اسپٹرنگ اہداف اعلی - طہارت دھات کی پھڑپھڑاتے ہوئے مواد ہیں جس کی پاکیزگی سے زیادہ یا اس کے برابر 99.99 ٪ ہے۔ ان میں عمدہ اناج اور یکساں مرکب شامل ہیں ، جس سے وہ سیمیکمڈکٹر ، آپٹیکل...

  زیادہ
• 99.95 ٪ HF Hafnium sputtering ہدف

  99.95 ٪ اعلی - طہارت سے متعلق ہافنیم اسپٹرنگ ہدف ، ایرو اسپیس - گریڈ ایچ ایف میٹل ٹارگٹ ، کسٹم سائز ، بانڈڈ تانبے کی پشت پناہی والی پلیٹ ، جو سیمی کنڈکٹر پتلی فلموں ، آپٹیکل کوٹنگز ، فوجی کوٹنگز ،...

  زیادہ
• زرکونیم ٹیوب ہدف

  زرکونیم ٹیوب کے اہداف پتلی ہیں - دیوار ، اونچی - طہارت زرکونیم ٹیوبیں جو سنکنرن -} مزاحم اور اعلی- درجہ حرارت مزاحم ہیں ، جو اسپٹرنگ کے دوران ایک گھنے ، یکساں فلم تیار کرتی ہیں۔ وہ کیمیائی آلات ،...

  زیادہ
• زیڈ آرٹی اسپٹرنگ ہدف

  زیڈ آر ٹی آئی اسپٹرنگ ہدف بنیادی طور پر الیکٹرانک انفارمیشن انڈسٹری ، شیشے کی کوٹنگ فیلڈ ، اعلی درجہ حرارت کے سنکنرن مزاحم مواد ، اعلی کے آخر میں آرائشی مصنوعات ، ٹچ اسکرین انڈسٹری اور فوٹو وولٹک...

  زیادہ
• زیڈ آرٹی اسپٹر کے اہداف

  زیڈ آر ٹی آئی اسپٹر کے اہداف عام طور پر استعمال ہونے والے دھات کے پھیلنے والے اہداف میں سے ایک ہیں ، جسے پلانر اہداف ، اسپرےڈ اہداف اور گھومنے والے اہداف وغیرہ میں تقسیم کیا جاسکتا ہے ، اور آئن...

  زیادہ
• زرکونیم ٹائٹینیم زیڈ آرٹی اسپٹرنگ ہدف

  زرکونیم ٹائٹینیم زرٹی اسپٹرنگ ہدف کو بڑے پیمانے پر ملٹی آرک آئن ویکیوم کوٹنگ یا میگنیٹرن اسپٹرنگ پی وی ڈی میں صنعت میں استعمال کیا جاتا ہے ، اور تقاضوں کے مطابق لباس مزاحم مواد ، آرائشی ملعمع کاری...

  زیادہ