نکل وینڈیم (NiV) پھٹنے والا ہدف

اعلی طہارت نکل وینڈیم کھوٹ کے ہدف میں چاندی کی سفید دھاتی چمک ہے، کثافت: 6.11 گرام/سینٹی میٹر، پگھلنے کا نقطہ 1910 ڈگری ہے، نقطہ ابلتا 3407 ڈگری ہے۔ یہ سیمی کنڈکٹر فیلڈ میں سب سے اہم پتلی فلم سپٹرنگ ایلوائیز میں سے ایک ہے۔ اس میں نان فیرو میگنیٹک ہونے کے اضافی فائدے کے ساتھ خالص نی کے لیے درکار کیمیائی، برقی اور نظری خصوصیات ہیں۔ اس کی غیر فیرو میگنیٹک خصوصیات کی وجہ سے، تیز رفتار میگنیٹران سپٹرنگ آلات میں استعمال کرنا آسان ہے۔

سائز: D152.4X6mm، درخواست پر اپنی مرضی کے مطابق کیا جا سکتا ہے.

شکل: فلیٹ ہدف، گھومنے والا ہدف، خصوصی شکل کی حسب ضرورت

عمل کا بہاؤ مواد کی تیاری - پگھلنا - کیمیائی تجزیہ - جعل سازی - رولنگ - اینیلنگ - میٹالوگرافک معائنہ - مشینی - جہتی معائنہ - صفائی - حتمی معائنہ - پیکیجنگ

بنیادی طور پر ڈائی الیکٹرک تہوں جیسے SiO2 اور SiN کو جمع کرنے کے لیے ری ایکٹو میگنیٹران سپٹرنگ میں استعمال ہوتا ہے۔ اہم فعال پتلی فلمی مواد کے طور پر، ان میں اچھی سختی، آپٹیکل، ڈائی الیکٹرک خصوصیات اور لباس مزاحمت ہے۔ سلیکون اہداف کی سنکنرن مزاحمت آپٹکس اور مائیکرو الیکٹرانکس کے شعبوں میں وسیع اطلاق کے امکانات رکھتی ہے، اور فی الحال دنیا بھر میں ایک فعال مواد کے طور پر وسیع پیمانے پر استعمال ہوتی ہے۔ اس وقت، نکل وینڈیم اہداف پتلی فلم جمع کرنے، سجاوٹ، سیمی کنڈکٹرز، ڈسپلے، ایل ای ڈی اور فوٹو وولٹک آلات، فنکشنل کوٹنگز اور دیگر آپٹیکل انفارمیشن سٹوریج اسپیس انڈسٹریز، گلاس کوٹنگ انڈسٹریز جیسے آٹوموٹیو گلاس اور آرکیٹیکچرل گلاس، آپٹیکل کمیونیکیشنز وغیرہ میں استعمال ہوتے ہیں۔

ڈاؤن لوڈ، اتارنا ٹیگ: نکل وینیڈیم (این آئی وی) سپٹرنگ ٹارگٹ، چین نکل وینیڈیم (این آئی وی) سپٹرنگ ٹارگٹ سپلائرز، فیکٹری